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多晶硅片清洗臭氧水机

作者:美特斯净化 来源:美特斯净化 发布时间:2023-06-10 浏览量:257

多晶硅片清洗臭氧水机

一、产品特点:

1、臭氧水浓度高达50PPM(mg/L)

2.采用多年研发高浓度板式臭氧放电系统,臭氧出口浓度高达300mg/L;

3、产品内部采用独创微纳米高效臭氧混合系统,直接与水混合出高浓度臭氧水

4、高效混合泵使臭氧利用率高达80% 以上;

5、全自动智能控制,按键即可控制机器工作,产生高浓度臭氧水,快捷安全      

6、管路采用卫生级不锈钢管件,耐压力、耐腐蚀

7、不锈钢外壳, 易擦洗, 卫生防腐。 耐臭氧。

8、体积小,噪音低,产量稳定。

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二:多晶硅片清洗试验数据:

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通过本方法将臭氧水应用于太阳能电池用硅晶片的制作工艺中,清洁工艺中去除了94%以上的无机物(微入口者),残留有机物进一步去除了45%,从而确认了臭氧清洁工艺的适用性。但是,虽然对产品质量没有太大影响,但由于外观原因影响产品价格的硬脂酸污染的去除实验中,长期搁置的部分多晶硅晶片也没有被去除,但研究结果表明,在硅锭的硅片工艺中立即应用臭氧水清洗工艺,可以更有效地去除硬脂酸污染。



三、高浓度臭氧水体机设备原理 

采用先进的物理制氧原理,通过制氧塔的变压吸附作用,在常温常压下直接将空气中的氧和氮分离,取得高纯度的氧气;然后采用电晕放电法获取臭氧,在常压下使含氧气体在交变高压电场作用下产生电晕放电生成臭氧;通过气液混合系统进行水和臭氧的混合后,得到一定浓度的臭氧水.



四、内置核心部件介绍

(一)内置制氧机

内置臭氧专用制氧机采用纳米分子筛技术,利用空气作为原料,通过分子塔生成高浓度氧气.氧气浓度在 93%以上。 采用了适合臭氧环境的耐腐蚀材料。增加了多级除湿装置,适合臭氧高湿环境。设备发热件和压缩空气经过深度冷却,设备温升低,适合连续稳定运行。整个设备耐 腐蚀,耐潮湿,温升低,可连续 24小时稳定运行。

内置制氧机特点

① .耐腐蚀,适合臭氧环境。 和普通制氧机、医用制氧机相比,采用了很多耐臭氧腐蚀材料,能在臭氧环境下长期使用。

② .耐潮湿,适合潮湿环境。 和普通制氧机相比,采用了三级除湿措施。包括第一级深冷自动排水,第二级除湿分子筛,第三级制氧分子筛除湿。前两级除湿保护了制氧分子筛,延长了制氧分子筛寿命,适合水处理环境潮湿场合。

③ .温升低,适合连续稳定运行。 采用了空气深冷技术和深度散热技术,设备温升和传统制氧机相比,由传统制氧机的环境温升 15-20℃大幅降低到3-5℃。

④ .内置无油压缩机,免维护。 制氧机内部采用了免维护的无油压缩机。不需要经常维护。

⑤ .以空气为原料,制氧成本低。 制氧机以空气为原料,物理方法制氧,日常没有消耗材料。制氧成本基本上就是电费和定期维护费,和氧气瓶相比,氧气成本非常低。

⑥ . 氧气浓度高,没有杂质和水气: 氧气浓度可达 93%以上。制氧机内置过滤材料,可过滤空气中的杂质和水气。